目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，那有没有其他的路可走？实际上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻技术。
纳米压印光刻技术是什么？
年，华裔科学家周郁（StephenChou）教授首次提出纳米压印概念，从此揭开了纳米压印制造技术的研究序幕。纳米压印技术是当今最具前景的纳米制造技术之一，很可能成为未来微纳电子与光电子产业的基础技术。目前，纳米压印技术在国际半导体技术蓝图（ITRS）中被列为下一代32nm、22nm和16nm节点光刻技术的代表之一。国内外半导体设备制造商、材料商以及工艺商纷纷开始涉足这一领域，短短25年，已经取得很大进展。
纳米压印光刻（紫外纳米压印）与光学光刻对比（来源：佳能